用于化學機械拋光機的研究和開發的各個方面
點擊次數：2854 更新時間：2015-10-24
用于化學機械拋光機的研究和開發的各個方面
•化學機械拋光機測試和開發各種不同的微粒，材料，濃度，氧化劑，抑制劑等的拋光液
•測試和開發不同的材料，溝槽形狀，尺寸，彈性，壽命等
•測試和發展拋光墊調節裝置來優化拋光墊的損耗率，修整，效率等
•開發CMP定位環材料來優化摩擦，磨損，壽命等
•測試去除率，重復性缺陷，工藝優化等，研究或開發各種應用的各種材料
•半導體方面-銅，Ta,TaN,Al,Si,SiO,Ru,WC,solarcells,PVD,CVD,薄膜等
•化合物半導體-砷化鎵，銦，磷化物，汞，鎘
•化學機械拋光機應用生物材料-牙，骨，鈦，鋼鐵制品等。
•光電材料–LED，藍寶石，紅外窗口拋光激光材料，顯微鏡頭，微光學，鈮酸鋰，鉭酸鋰，磷酸氧鈦鉀等。
上一篇：輪廓儀如何開關機
下一篇：2015全國摩擦學會議
